魏哲家访ASML 买祕密武器

                                                                                               魏哲家访ASML 买祕密武器

                                 台积电何时採购艾司摩尔（ＡＳＭＬ）最新世代高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）设备引发关注，据了解，台积电董事长暨总裁魏哲家五月密访艾司摩尔，已敲定买下艾司摩尔最新代号NXE5000的High-NA EUV设备，并预定秋天进驻台积电位于新竹的研发中心第八厂（P8），且敲定将导入用于新一代採用互补式场效电晶体（ＣＦＥＴ）架构的一奈米（内部称A10）研发作业。

                                 值得一提的是，台积电也与ＡＳＭＬ达成协议，原本ＡＳＭＬ统筹在荷兰总部进行最先进EUV研发工作，将首度拉到台湾，进驻台积电研发中心；对照同为ＡＳＭＬ供应链成员的EUV光源关键零组件蔡司在台首座创新研发中心六月中旬落成启用，预料在面对英特尔和三星两大强敌威胁下，台积可望取得压倒性胜利。

                                 台积电今天下午举行法说会，因法说前处于缄默期，无法对公司制程布局做任何评论。但台积何时导入High-NA EUV一直是法人追踪焦点，预料随新战略布局浮现，将掀起新话题。

                                 ＡＳＭＬ高数值孔EUV设备，因线宽更精细，可将电路设计曝光在硅晶圆上更清楚，并节省光罩次数，成为晶圆三雄英特尔、三星和台积电下个战场。英特尔宣布率先导入，并抢先买下第一台High-NA EUV，计画用于14A制程；三星电子会长李在鎔去年也飞往荷兰访问ＡＳＭＬ，ＡＳＭＬ承诺与三星共同投资七亿欧元（约台币二五○亿元），于南韩首都圈设立开发新一代EUV设备。相形之下，在ＡＳＭＬ营收占比最高的台积电显得谨慎许多。台积电资深高层曾透露，考量High-NA EUV机台售价过于昂贵，公司预计在A16制程技术后的产品再考虑使用。

                                今年五月廿三日，魏哲家缺席自家举办的“台积电技术论坛”，而是密访ＡＳＭＬ总部以及德国工业雷射公司TRUMPF。消息指出，魏哲家此行确实是为了採买ＡＳＭＬ最新款High-NA和NA EUV曝光机，亲访的目的是要谈价格，但ＡＳＭＬ并未让步，但愿意将过去由台积电派员前去荷兰总部与ＡＳＭＬ共同研发的模式，改到台积电位于新竹的研发中心。

                                台积电与ＡＳＭＬ敲定新的合作研发模式，和ＡＳＭＬ与三星的合作备忘录相近，但台积电打算将新购的High-NA EUV微影设备，投入採用互补式场效电晶体架构的一奈米研发作业，换句话说，台积电即将于明年下半年量产的二奈米，和预定在后年量产的埃米级A16，甚至是一点四奈米制程的A14，都仍会延用低数值孔径的EUV。